等離子清洗機在半导体制造中的应用

等離子體輔助清洗技術是一種先進制造工業中的精密清洗技術,在許多工業領域都可以運用到這種清洗技術,下面爲大家介紹一下,等離子清洗機清洗技術在半導體制造中的應用。

等離子清洗機在半导体宅男天堂中的应用

化學氣相沈積(CVD)和刻蝕被廣泛應用于半導體加工過程中,利用CVD可以沈積多晶矽薄膜、氮化矽薄膜、二氧化矽薄膜和金屬薄膜(如鎢)。此外,微三級管及電路中起連接作用的細導線也是在絕緣層上通過CVD工藝制成的。

CVD過程中,部分殘留物會沈積到反應腔室內壁上。這裏的風險是,這些殘留物會從內壁上脫離,對後續的循環過程造成汙染。因此,在新的沈積過程開始之前需要對CVD腔室用等離子清洗機清洗來維護宅男天堂的合格産出。傳統的清洗劑是PFCsSF6這類含F的氣體,可以被當成等離子體發生氣體用于將CVD腔室內壁的Sio2或者Si3N4去除幹淨。再循環過程中,FFC在等離子體作用下分解出來的F原子可以刻蝕掉殘留在電極、腔室內壁和腔內五金器件上的殘留物。

理解FFC需要很高的能量。因此,在等離子清洗機进行清洗的过程中腔室内相当一部分的FFC不會離解成活性F原子。這部分未反應的含F氣體除非使用減排技術,否則最終還是會流入大氣中。這些氣體在大氣層中的壽命很長,會在很大程度上加劇全球變暖,其熱能比二氧化碳高出4個量級,因此國際環保組織從1994年開始發展減少這種氣體排放的技術。NF3對溫室效應的影響較小,可以替代上述的含F氣體。

另一个应用于半导体宅男天堂的制造步骤是利用等離子清洗機清洗去除硅胶片上元件表面的光敏有机材料制造的光刻胶。在沉积工艺开始前,需要将残留的光刻胶去除干净。传统的去胶方法采热的硫酸和过氧化氢溶液,或其他的有毒的有机溶剂。然而,使用等離子清洗機清洗可以用三氧化硫等气体去胶,这种方法减少了对化学溶剂和有机溶剂的依赖。对于一般的制造厂来说,采用等離子體清洗技术去胶可使化学溶液的使用量减少1000倍,不僅環保,還能爲企業節約大量資金。

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